Ученые из IBM совместно с сотрудниками из Калифорнийского технологического университета (КТИ) заявили о совершении ответственного открытия, благодаря которому в будущем станет вероятно производства микрочипов с еще более плотной интеграцией, трудящихся на более высоких скоростях.

Команде исследователей из КТИ во главе с Полом Ротмандом (Paul Rothmund) удалось добиться значительного прорыва в объединении процесса фотолитографии при производстве процесса и чипов самосбора токопроводящих частиц.

На данный момент микросхемы выпускаются на базе 45-нм технологии. В конце 2009 г. планируется выпуск чипов на базе 32-нм техпроцесса. Со временем планируется переход на 22-нм норму. Но уменьшение технологической нормы сопряжено с большими затратами. Более того, при уменьшении величины транзисторов появляется дополнительная преграда — затвор транзистора делается таким тонким, что теряет собственные свойства, и руководить протеканием тока в таком транзисторе все сложнее.

Как раз с целью стабилизации электрических особенностей транзистора при переходе на 45-нм норму корпорация Intel обратилась к новому полупроводниковому материалу — гафнию.

По словам ученых из IBM, по окончании перехода на 22-нм норму предстоящее применение существующих материалов будет неосуществимым. Исходя из этого производители уже приступили к изучениям новых материалов, среди которых — углеродные нанотрубки либо кремниевые нанопроволоки. В этом случае IBM предлагает применять молекулы ДНК, машинально планирующие в определенные узоры.

Такие молекулы могут служить основой для токопроводящих схем в чипов с размером транзисторов менее 22 нм.

Ученые предлагают собирать чипы при помощимолекул ДНК

Посредством самособирающихся молекул ДНК вероятно создание собственного рода миниатюрных печатных плат, на которых после этого будут размещены радиодетали — в этом случае, углеродные нанотрубки, нанопроволоки и наночастицы, размер которых будет намного меньше в сравнении с классическим производством микросхем.

«Затраты, появляющиеся в ходе миниатюризации, являются причиной, ограничивающим предстоящее воздействие Закона Мура, — говорит Спайк Нарайан (Spike Narayan), директор группы ScienceTechnology в IBM Research. — Совмещенное применение разработки самосбора частиц с новейшими технологиями производства микрочипов в конечном итоге может привести к значительному сокращению издержек, каковые появляются на самом ответственном этапе производства чипов».

Ученые изучили процесс самосбора ДНК и обучились приобретать те узоры, каковые им необходимы. Процесс происходит в особом растворе между долгой молекулярной цепочкой вирусной ДНК и маленькими цепочками синтетического олигонуклеотида. Эти маленькие цепочки делают роль крепежа, формируя из долгих молекул ДНК необходимые двумерные фигуры.

Цепочки-крепежи возможно размещать на расстоянии до 6 нм друг от друга. Так, фигуры из ДНК — такие, как квадраты, звезды и треугольники, — получаются размером от 100 до 150 нм от вершины до вершины с диаметром двойной спирали ДНК. По окончании создания схем из таких узоров процесс переходит к существующим разработкам — на базе молекулярной схемы создается классический трафарет для фотолитографии.

Результаты работы были размещены в издании Nature Nanotechnology. Ни о каких вероятных сроках внедрения таковой технологии в массовое производство ученые не информируют.

Увлекательные записи:

• Ibm обещает прорыв в технологиях чтения мыслей
• Ibm обгонит intel в нанометрах
• Ibm предсказала ближайшее будущее вычислительных систем

Commodore History Part 1- The PET